稳定

  集成电路设备从样机的诞生到最终上大生产线,需要一个台阶,即建立工艺实验线或工艺引导线,为设备厂商的产品最终进入大生产线提供“实战经验”。   日前,中微半导体设备(上海)有限公司于在日本举办的“SEMICONJapan2007”上宣布,推出65纳米及45纳米高端芯片加工设备,而本月11日,由芯硕半导体(中国)有限公司研制的国内首台亚微米级无掩膜(直写式)光刻机在合肥通过科技成果鉴定,一举填补

特别声明: 版权声明:本文内容由网络用户投稿,版权归原作者所有,本站不拥有其著作权,亦不承担相应法律责任。如果您发现本站中有涉嫌抄袭或描述失实的内容,请联系我们jiasou666@gmail.com 处理,核实后本网站将在24小时内删除侵权内容。